一、导师照片
二、基本信息
姓名:曹春
所属社交软件 :社交软件-真实社交-社交软件排名
导师类别:硕士生导师
科研方向:微纳3D打印、精密表面抛光
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电子邮箱:chuncao@shejiaorj.com
三、个人简历
曹春,男,1988年生,博士,副教授。2012年毕业于北京科技大学,获学士学位。2018年于中国科社交软件 大学取得博士学位,2020-2022年于之江实验室开展博士后研究,目前为社交软件-真实社交-社交软件排名 社交软件-真实社交-社交软件排名 副教授,硕士生导师。
主要从事激光微纳增材制造(3D打印)、激光光刻、原子级化学机械抛光等技术研究,通过新型材料体系创新实现交叉领域的功能化应用。主持国家自然科学基金青年项目、中国博士后科学基金、杭州市博士后启动基金、企业横向项目等,浙江省尖兵领雁项目子课题负责人。截至目前,以第一作者/通讯作者身份在Nature Communications(2篇)、Advanced Functional Materials、Additive Manufacturing(2篇)、ACS Applied Materials & Interfaces(3篇)等期刊发表SCI论文25余篇;申请中国发明专利50余件,已授权30余件。担任Polymers、Photonics期刊客座编辑,JACS、Advanced Functional Materials、Additive Manufacturing、Material & Design等期刊特约审稿人。相关成果获得中国光学科技奖-特等奖。
四、学术成果
(一) 代表性论文(5篇)
[1] Chun Cao, Xia, X., Shen, X. et al. Ultra-high precision nano additive manufacturing of metal oxide semiconductors via multi-photon lithography. Nature Communications, 2024, 15: 9216.
[2] Z. Ma, T. Li, X. Dai, X. Shen, X. Wang, H. Fu, X. Xia, Q. Zhu, Y. Zhu, Z. Yu, Chun Cao*, S. You*, C. Kuang*, Highly Sensitive Cationic Photoresist for High-Throughput Two-Photon Nanofabrication. Advanced Functional Materials, 2024, 2409859. //doi.org/10.1002/adfm.202409859
[3]Chun Cao*,Cuifang Kuang,* Xu Liu, and et. al.,Cellulose Derivative for Biodegradable and Large-scalable 2D Nano Additive Manufacturing,Additive Manufacturing, 2023, 74, 103740.
[4]Lingling Guan,Chun Cao*,Xi Liu,Qiulan Liu,Yiwei Qiu,Xiaobing Wang,Zhenyao Yang,Huiying Lai,Qiuyuan Sun,Chenliang Ding,Dazhao Zhu,Cuifang Kuang*,and Xu Liu*.Light and Matter Co-confined Multi-photon Lithography,Nature Communications, 2024, 15: 2387.
[5]Chun Cao*, J. Liu, X. Xia, X. Shen, Y. Qiu, C. Kuang*, X. Liu, Click chemistry assisted organic-inorganic hybrid photoresist for ultra-fast two-photon lithography,Additive Manufacturing, 2022,51,102658.
(二) 代表性科研项目
[1] 国家自然科学基金青年科学基金项目, 基于金属氧化物纳米团簇的超分辨双色光敏飞秒激光光刻胶研究,主持,2022.01-2024.12,30万元。
[2] 中国博士后面上基金,基于巯基烯光点击聚合的有机-无机杂化超分辨飞秒激光光刻胶研究,主持,2020.12-2022.04,8万元。
[3] 浙江省“尖兵”“领雁”研发攻关计划,高性能飞秒激光直写双光子光刻胶研发及应用,子课题负责人,2022.06-2025.06,200万元。
(三) 科研奖励
[1] 超分辨并行激光直写光刻技术与装备,中国光学学会科技创新奖-特等奖(排名5/8),2024。
(四) 知识产权
[1]. 一种液体双光子引发剂及其制备方法与应用, 匡翠方; 沈小明; 曹春; 邱毅伟; 黄宁; 刘旭,CN113105570B,发明专利,授权。
[2]. 一种高精度光刻胶组合物及其直写系统, 邱毅伟; 曹春; 关玲玲; 沈小明; 夏贤梦;匡翠方; 刘旭, CN114185246B, 发明专利,授权。
[3]. 一种氧化锌微纳图案的飞秒激光直写方法, 夏贤梦; 曹春; 沈小明; 邱毅伟关玲玲; 匡翠方, CN114326295B, 发明专利,授权。
[4]. 基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置, 匡翠方; 杨顺华;刘旭; 李海峰; 曹春; 徐良, CN113059807B, 发明专利,授权。
[5]. 一种二氧化锆微纳图案的飞秒激光直写方法, 匡翠方; 夏贤梦; 曹春; 沈小明; 邱毅伟; 关玲玲, CN114527630B, 发明专利,授权。
五、主要荣誉
无
六、学术兼职
Polymers、Photonics期刊客座编辑,JACS、Advanced Functional Materials、Additive Manufacturing、Material & Design等期刊特约审稿人。